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(1)電解條件的選擇。這里所指的電解,目的是要去除鍍液中的雜質,但是在電解去除雜質的同時,往往也伴隨有溶液中主要金屬離子的放電沉積。為了提高去除雜質的速率,減慢溶液中主要金屬離子的沉積速率,就要注意電解處理的操作條件。
①電流密度:電解處理時,以控制多大的電流密度為好,原則上要按照電鍍時雜質起不良影響的電流密度范圍。也就是說,在電鍍過程中,若雜質的影響反映在低電流密度區,那么電解處理時應控制在低電流密度下進行,假使雜質的影響反映在高電流密度區,則應選用高電流密度進行電解;如果雜質在高電流密度區和低電流密度區都有影響,那么可先用高電流密度電解處理一段時間,然后再改用低電流密度電解處理,直至鍍液恢復正常。在一般情況下,凡是用低電流密度電解可以去除的雜質,為了減少鍍液中主要放電金屬離子的沉積,一般都采用低電流密度電解。事實上,電鍍生產中,多數雜質的影響反映在低電流密度區,珠海沖壓件加工,所以通常電解處理的電流密度控制在0.1A/dm2-0.5A/dm2之間.[4]

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去除方法:
1)電解::0.4A/dm2
2)化學法:稀硫酸調PH =3左右,加30% H2O2 0.5-1mol/L,加熱65-70℃,使Fe2+ 轉化為Fe3+ 并加熱攪拌除去多余的H2O2,用BaCO3或NiCO3,Ba(OH)2調PH至6,攪拌2h,重復調PH,使之穩定在6,靜置過濾。
5,鉻雜質:
混入途徑:六價鉻槽鉻霧,掛具夾帶的六價鉻滲出。
影響:鉻是鍍鎳液中敏感的金屬元素之一,微量鉻的存在,使鍍液分散能力,電流效率降低,鍍層發灰,結合力下降。當六價鉻含量達到3-5ml/L時,在低電流密度區鎳層難以沉積,如含量達到5ml/L以上時,就會使鍍層產生條紋,沖壓件加工價格,引起鍍層剝落。在低電流密度處無鍍層。三價鉻在PH=3.5以上就會產生沉淀,使鍍鎳層粗糙。
鑒別:取2ml鍍液加于試管中,加3mol/L NaOH至偏堿性,加H2O2(30%) 2-3滴,加熱至沸,有鉻存在則變成黃色溶液,冷至室溫,用1mol/L 硫酸酸化至酸性,加3-5滴,再慢慢滴加H2O2,沖壓件加工公司,同時搖動試管,層有蘭色出現,則有Cr6+ 存在。
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(2)電解處理的要求
首先要查明有害雜質是否來源于電解過程:電解處理可以去除某些雜質,但有時也會產生雜質。例如有害雜質來源于不純的陽極,電解處理時仍用這種陽極,那么隨著電解過程的進行,雜質會越積越多;又如雜質來源于某些化合物在電極上的分解,那么電解將使這類分解產物逐漸增多。這樣的電解處理,不但不能凈化鍍液,反而會不斷加重鍍液的污染。因此,在電解處理前,要進行必要的檢查,預防處理過程中產生有害雜質。

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